对于非导电性物质，例如氢氧化镁等，在利用扫描电镜进行直接观察时，会产生严重的荷电现象，影响对样品的观察，因此需要在氢氧化镁表面蒸镀导电性能好的如金等导电薄膜层。这样不仅可以防止荷电现象，还可以减轻由电子束引起的氢氧化镁表面损伤;增加二次电子的产率，提高图像的清晰度;并可以掩盖基材信息，只获得表面信息。一般金属层的厚度在 10nm 以上不能太厚。镀层太厚可能会盖住氢氧化镁表面的细微得不到样品表面得真实信息，反之，对于样品表面粗糙的样品不容易获得连续均匀的镀层，容易形成岛状结构，从而掩盖样品的真实表面。表面镀膜最常用的方法有真空蒸发和离子溅射。其中真空蒸发一般是在10-7—10-5Pa的真空中蒸发低熔点的金属。一般常采用的是蒸镀金属金薄膜，当要求放大倍数时，金属膜的厚度应该在10nm以下。
