硅微粉具有常规SiO2所不具有的特殊光学性能，它具有极强的紫外吸收，红外反射特性，因此硅微粉可作为一种极为重要的红外半导体材料，不同基团的有机硅微粉，折射率也不同，在产品设计方面也有所不同，粉体折射率和树脂的折射率差异越大，在低质量分数的情况下制备的涂层所获得的雾度效果更好，透光率高，对光的损耗较小。硅微粉在红外光学薄膜的制备中，有关电子枪沉积工艺方面的资料比较少。因此，在沉积Si 薄膜之前，需要研究适合Si 的电子蒸发工艺，主要包括沉积温度、真空度、沉积速率等工艺参数的确定。这些参数会不同程度地影响到材料的折射率和消光(吸收)系数。通常，在使用过程中希望折射率尽可能高一些，消光系数尽可能低一些。另外，要确保蒸发工艺的兼容性，即能与其组合的低折射率膜料的工艺参数相一致。
